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钽溅射靶材

日期:2018-12-03     点击:193    查看原图
钽溅射靶材












介绍
产品名称:钽靶材

牌号:Ta1.Ta2.TaW2.5.TaW10.
标准:GB/3629-2006
纯度:≥99.95%
状态:退火态(M)或硬态(Y)
尺寸:

外径(mm

厚度(mm

表面粗糙度

平面度

50~400

3~50

32Rms

≤0.15%

注:特殊产品需供需双方协商解决。

成分要求:

牌号

元素含量   (质量分数%)

C

N

O

H

Fe

Si

Ni

Ti

Mo

W

Nb

Ta

Ta1

0.01

0.005

0.015

0.0015

0.005

0.005

0.002

0.002

0.01

0.01

0.05

余量

Ta2

0.02

0.025

0.03

0.005

0.03

0.02

0.005

0.005

0.03

0.04

0.1

余量

TaNb3

0.02

0.025

0.03

0.005

0.03

0.03

0.005

0.005

0.03

0.04

1.5~3.5

余量

TaNb20

0.02

0.025

0.03

0.005

0.03

0.03

0.005

0.005

0.02

0.04

17~23

余量

TaNb40

0.01

0.01

0.02

0.0015

0.01

0.005

0.01

0.01

0.02

0.05

35~42

余量

TaW2.5

0.01

0.01

0.015

0.0015

0.01

0.005

0.01

0.01

0.02

2.0~3.5

0.5

余量

TaW7.5

0.01

0.01

0.015

0.0015

0.01

0.005

0.01

0.01

0.02

6.5~8.5

0.5

余量

TaW10

0.01

0.01

0.015

0.0015

0.01

0.005

0.01

0.01

0.02

9.0~11

0.1

余量

应用:钽溅射靶材是通过压力加工获得的钽片材,化学纯度高,晶粒尺寸小,再结晶组织和三个轴向的一致性好,

主要应用于光导纤维,半导体晶片和集成电路的溅射沉积镀膜,钽靶材可用于阴极溅射涂层,高真空吸气活性材料等.

是重要的薄膜技术用材料。穿甲弹:钽制穿甲弹是导弹的一种,如TOW2B导弹。Ta-10W等合金也可制作穿甲弹。

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